|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48518 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 49110 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
| 54811 |
|
375 |
플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다.
[1] | 309 |
|
374 |
Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다.
| 257 |
|
373 |
코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다
[1] | 370 |
|
372 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유
[1]  | 2008 |
|
371 |
플라즈마 압력에 대하여
[1] | 860 |
|
370 |
RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.
[1] | 1471 |
|
369 |
활성이온 측정 방법
[1] | 273 |
|
368 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다.
[1] | 567 |
|
367 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 889 |
|
366 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 918 |
|
365 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 1594 |
|
364 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 795 |
|
363 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1097 |
|
362 |
DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다.
[1] | 367 |
|
361 |
안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다.
| 455 |
|
360 |
플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요.
[1] | 568 |
|
359 |
DC bias (Self bias)
[3] | 3344 |
|
358 |
ICP와 CCP의 차이
[3] | 6322 |
|
357 |
새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서
[1] | 499 |
|
356 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 541 |
