Plasma in general O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다.
2020.05.28 12:04
안녕하세요. 저는 반도체 업종에서 근무하고 있습니다.
궁금한 점이 있어 질문드립니다.
Amorphous carbon 을 O2 분위기하에서 플라즈마 처리 할 경우 제거되는 지 궁금합니다.
또한 TIN 막을 H2 plasma 처리 할 경우 질소가 제거 된 TI가 되는 지 궁금합니다.
챔버 내 대기압 또는 진공상태가 위의 결과에 영향을 크게 미치는 지 궁금합니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76736 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
629 | 기중방전에서 궁금한것이 | 19162 |
628 | 플라즈마를 손으로 만질 수는 없나요?? | 19072 |
627 | AMS진단에 대하여 궁금합니다 | 19049 |
626 | 플라즈마에 관하여... | 18960 |
625 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18875 |
624 | 등온플라즈마와 비등온플라즈마 | 18767 |
623 | 플라즈마의 환경이용 | 18761 |
622 | 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] | 18740 |
621 | 플라즈마진단법엔 어떤것이? | 18731 |
620 | 주변의 플라즈마에 대하여 | 18652 |
619 | 핵융합 발전에서는 폐기물이 않나오는 .... | 18565 |
618 | 플라즈마을 막는 옷의 소재는? | 18552 |
617 | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18545 |
616 | 최적의 펌프는? | 18540 |
615 | 형광등에서 일어나는 물리적인 현상 | 18527 |
614 | RF compensate probe | 18452 |
613 | 질문 있습니다. [1] | 18368 |
612 | 물리적인 sputterting | 18366 |
611 | Faraday shielding & Screening effect | 18352 |
610 | 실생활에서 사용되는 플라즈마 | 18316 |
화학 반응에 대해서는 전북대학교 임연호 교수님 (화공전공) 혹은 성균관 대학교 염근영 교수님 연구실로 문의해 보시는 것을 추천드립니다.
마지막 질문은 대기압과 진공상태에서 플라즈마를 만들었을 경우를 의미하는 것이라면, 일단 압력이 높으면 플라즈마 생성이 매우 어렵고 충돌로 인해 이온의 방향성이 매우 좋지 않습니다. 따라서 이온의 방향성 제어를 필요로 하는 식각 공정등에서는 낮은 압력을 사용하게 됩니다. 일반적으로 중성-전자 평균 충돌 거리를 기준으로 반응기 혹은 대상 시편 크기를 비교해서 충돌성의 크기 여부를 판단하기도 합니다. 따라서 위의 질문이 플라즈마 공정이라면 당연히 운전 압력이 공정에 미치는 영향은 매우 큽니다.