안녕하세요.

 

Plasma 관련 공부를 처음 시작하게된 엔지니어입니다.

 

교수님의 설명을 통해 이곳에서 많은 공부를 하고 있는 도중 의문점이 있어 질문 드립니다.

 

Source Gas의 Uniformity를 관련하여 공부하고 있는데요

 

Plasma도 처음 시작하게 되었는데 기체의 유동도 많은 관련이 있어 공부를 시작하려 합니다.

 

진공 상태에서 Gas가 분출되어 나오고, showerhead를 통해 Process 공간으로 분사될 때 Gas의 Density를 대략적으로 계산할 수 있는 식이 있을까요??

 

예를들면 직경 10Φ의 원형에서 Gas가 분출되어 나오고 Showerhead와의 거리는 A, Showerhead 면적이 100mm x 50mm 일때 Showerhead를 통과하는 기체의 Density를 구할 수 있을까요??

 

정확하지 않더라도 간단하게 유추정도만 해볼 수 있는 식이 있다면 지도 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [301] 77986
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20815
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57727
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69235
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93613
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 624
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1048
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 624
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1136
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1665
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 956
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2112
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 885
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4219
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1248
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 1003
645 plasma 형성 관계 [1] 1644
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 3147
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3549
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4959
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2266
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1216
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1332
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 4014
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1780

Boards


XE Login