안녕하세요. 반도체 회산 근무중인 사람인데요.

궁금증이 있어 몇가지 질문 드립니다.

1.     Descum 기본 원리

*. RF + O2 를 이용한 Plasma 발생 및 Descum 진행 원리

*. RF + MW + O2 를 이용한 Plasma 발생 및 Descum 진행 원리

2.     Descum 시 발생하는 광원에 대하여..

*. Descum 시 발생하는 광원의 종류

è  Plasma 발생 파장에 따른 Graph화된 자료가 있으면 좀 더 쉽게 이해 될 것 같습니다.

è  해당 광원이 UV에 해당하는 광원 인가요?

3.     RF Generator

*. RF Generator의 기본적인 역할

*. RF Generator가 파장의 변화를 줄 수 있는지?(공정 조건은 동일하다는 가정하에)

질문이 많아 죄송합니다.

 답변 부탁 드립니다.

감사합니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
629 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1309
628 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2014
627 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8722
626 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3536
625 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 14787
624 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1332
623 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1011
622 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 863
621 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270
620 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1533
619 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1370
618 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 706
617 anode sheath 질문드립니다. [1] 984
616 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 726
615 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 708
614 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1459
613 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1989
612 라디컬의 재결합 방지 [1] 791
611 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2019
610 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1453

Boards


XE Login