Etch Dry Etcher 에 대한 교재
2009.08.07 17:14
저는 LCD Dry Etcher 내 하부에 장착되는 ESC(Plasma ceramic Coating Type) 만드는 회사에 다니고 있습니다.
전공이 재료공학 인지라 Etcher 에 대한 설비, 공정진행 여러가지 모자란 부분이 많습니다. 이 부분을 독학 공부를 하고 싶은데 도움되는 교재를 추전해 주셨으면 좋겠습니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76858 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20263 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57197 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68748 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92616 |
23 | plasma cleanning에 관하여.... | 20839 |
22 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20914 |
21 | 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] | 21593 |
20 | 펄스바이어스 스퍼터링 답변 | 21948 |
19 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22095 |
18 | 질문있습니다 교수님 [1] | 22160 |
» | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22550 |
16 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22777 |
15 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23771 |
14 | Arcing | 23839 |
13 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24183 |
12 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24666 |
11 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24890 |
10 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 28953 |
9 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 29274 |
8 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 29759 |
7 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 30040 |
6 | DC Bias Vs Self bias [5] | 31565 |
5 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31681 |
4 | RF에 대하여... | 32034 |