개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:50572 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [99] 3637
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15318
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50572
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62985
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82029
508 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 769
507 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 774
506 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 777
505 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 780
504 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 789
503 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 791
502 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 791
501 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 794
500 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 797
499 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 799
498 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 801
497 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 805
496 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 819
495 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 826
494 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. [1] 854
493 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 873
492 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 878
491 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 881
490 Group Delay 문의드립니다. [1] 883
489 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 886

Boards


XE Login