안녕하세요 교수님. 항상 친절한 답변 감사드립니다.

 

회사를 다니면서 공부를 하다보니 제가 부족한 부분이 많아 자꾸 찾아뵙게 되네요.

 

현재 염근영 교수님의 '플라즈마 식각기술' 이라는 책을 공부하고 있는데요.

 

읽다보니 간단한것 같은데 이유를 모르겠는게 있어서 문의 드립니다.

 

Pressure가 공정에 미치는 영향 중에 압력이 낮아지면 rf voltage가 높아진다고 나와있는데 그 이유가 궁금합니다.

 

그리고 이 전압이라함은 플라즈마와 전극 사이의 전압을 말하는건가요?

 

제가 전기쪽으로는 지식이 많이 부족해서 헷갈립니다 ㅜㅜ 

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76929
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20307
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57226
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68777
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92754
118 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1783
117 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1713
116 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1709
» RF 전압과 압력의 영향? [1] 1694
114 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1655
113 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1569
112 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1539
111 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1526
110 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1466
109 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1456
108 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
107 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1438
106 플라즈마 관련 교육 [1] 1417
105 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1394
104 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1370
103 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1370
102 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1351
101 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1310
100 플라즈마 기초입니다 [1] 1294
99 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1268

Boards


XE Login