번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103361
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24718
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61540
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73523
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105956
73 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23475
72 CCP/ICP , E/H mode 23605
71 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23629
70 plasma and sheath, 플라즈마 크기 24191
69 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24206
68 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 24207
67 플라즈마 쉬스 [Sheath와 self bias] 24257
66 self Bias voltage [Self bias와 mobility] 24414
65 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24435
64 Arcing [아크의 종류와 발생 원인] 24529
63 플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절] 24665
62 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [ICP의 skin depth와 공정 균일도] [1] 24881
61 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias] [3] 24933
60 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 25005
59 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 25031
58 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 25159
57 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure] [1] 25190
56 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 25246
55 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [반사파 형성과 플라즈마 운전 조건] [2] 25280

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