CCP CCP Plasma 해석 관련 문의

2022.08.30 15:27

플라즈마공부 조회 수:357

 

안녕하세요 Plasma 해석 관련 공부 하고 있는 석사 과정 학생입니다. 

다름이 아니라, Plasma 해석 관련하여 몇가지 테스트를 진행하던 도중 궁금한 부분이 있어 질문드립니다.

 

1. 이미지와 같이 CCP Plasma 를 2D Axisymmetry 구조로 단순화하여 상용 S/W 를 통해 해석하고 있는데,

플라즈마 전자 밀도 분포가 Test Result2, 3 와 같이 Center Peak 점이 발생하였습니다. (13.56M, Ar only, Electrode Gap 30mm)

해석 조건 중 Test1 : 200V(약 13W), Test2 : 200W, Test3 : 500W 로 Bias Power만 상이 합니다.

기존에 해석된 예시의 그림을 보면 Test Result1과 같이 나와야 하는 것으로 알고 있습니다. 

해당 결과를 어떻게 봐야할지 모르겠습니다. 실제로 Electric Potential, Te, Ne값들이 일정한 값으로 수렴했습니다...

이러한 형상의 플라즈마가 형성될 수 있는 건가요? 도움 부탁드립니다...

 

2. 위 문제와 별개로 Wall(확산영역) Permittivity가 증가함에 따라 플라즈마 전자 밀도 변화에 대해 해석하였을때,  분포의 구배가 변하진 않지만, 전체적인 전자 밀도가 상승하였습니다. 해당 현상의 가장 주요한 원인이 벽면에서의 전위차의 크기가 바뀌어 플라즈마에 작용한 전기장의 세기가 커졌기 때문이라고 생각합니다. 이렇게 접근하는게 맞는지 궁금합니다...

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5597
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16872
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51346
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64205
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84185
691 플라즈마 진단 OES 관련 질문 28
690 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 35
689 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 44
688 ESC DC 전극 Damping 저항 65
687 RF Sputtering Target Issue [1] file 113
686 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 118
685 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 118
684 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 124
683 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 125
682 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 138
681 Polymer Temp Etch [1] 147
680 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 147
679 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 150
678 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 152
677 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 165
676 plasma striation 관련 문의 [1] file 166
675 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 188
674 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 192
673 RPSC를 이용한 SiO, SiN Etch 관련 문의드립니다. [1] 192
672 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 203
쓰기
태그

Boards

XE Login