안녕하십니까 식각 관련 업무를 배우고 있는 엔지니어입니다. 알아본 바로는 LF일 때의 Sheath 영역이 HF일때보다 더 두껍다, 크다 라고 알고 있습니다. 이온의 이동성으로 생각해봤을 때, LF일 때가 HF일때 보다 이온이 반응할 수 있는 시간이 길고 이동이 더 가능하다. 즉, 이온의 밀집지역이 전극에서 더 멀어져있다, Sheath 영역이 더 두껍다 라고 이해했는데 이 생각이 맞는지 궁금합니다.

그리고 etch 진행시 LF power를 인가하면 Ion bombardment를 이용할 수 있다고 했는데, Sheath 영역이 더 두껍기 때문에 Ion을 끌어오기 더 용이해서라고 이해하면 되는지 궁금합니다. 답변주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76951
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20316
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57238
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68787
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92780
621 라디컬의 재결합 방지 [1] 812
620 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 813
619 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 815
618 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 817
617 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 819
616 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 829
615 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 834
614 RF 파워서플라이 매칭 문제 835
613 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 844
612 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 846
611 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 848
610 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 852
609 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 854
608 Self bias 내용 질문입니다. [1] 855
607 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 857
606 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 857
605 문의 드립니다. [1] 875
604 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 878
603 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 883
602 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 899

Boards


XE Login