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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76939
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111200
636 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 1239
635 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 1239
634 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 1244
633 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [글로우 방전 및 아크 방전] [1] 1262
632 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [용사 코팅] [1] 1263
631 RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계] [1] 1267
630 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 1270
629 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [DBD와 "industrial plasma engineering"] [1] 1273
628 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1280
627 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1282
626 RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher] [1] 1282
625 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 1291
624 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 1291
623 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1293
622 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 1295
621 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1297
620 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 1299
619 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 1300
618 Arcing과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [Self bias와 DC glow 방전] [1] 1301
617 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 1302
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