안녕하세요.

반도체 장비를 생산하는 업체의 연구실 소속 최재혁이라고 합니다.

자사가 생산하는 제품중에 오존 발생기가 있으며 이 생산 제품의 주요 부품에 대해서는 

전량 수입에 의존 하고 있습니다.

언급된 주요 부품에 대해서 설명을 드리면 Chamber로 이루어진 발생장치 안에 O2를 

주입하고 촉매제와 플라즈마를 이용하여 O3를 발생시키는 역할로서 발생기의 핵심이라

고 할 수 있습니다.

자사 보안 규정에 따라 자세한 내용을 설명드릴 수 없는 점 양해를 부탁 드립니다, 

핵심 기술에 대한  위탁 및 공동 연구개발을 계획하고 있습니다.

교수님께서 시간이 되시면 저희 회사 인원과 함께 찾아 뵙고 프레젠테이션을 진행 했으

합니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [309] 78473
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21040
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57867
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69400
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93945
621 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 886
620 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 892
619 RF 파워서플라이 매칭 문제 896
618 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 902
617 RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계] [1] 906
616 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 910
615 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [용사 코팅] [1] 912
614 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 913
613 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 917
612 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 921
611 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 935
610 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 948
609 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 962
608 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 965
607 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 973
606 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 976
605 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 979
604 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 980
603 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 984
602 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [광운대 플라즈마 바이오 연구소] [1] 985

Boards


XE Login