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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59674
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71481
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 99624
609 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1120
608 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1121
607 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1128
606 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1128
605 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브] [2] 1140
604 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1142
603 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1143
602 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 1144
601 RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher] [1] 1145
600 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1145
599 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1147
598 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 1151
597 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 1163
596 플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films] [1] 1169
595 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1196
594 아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance] [1] 1199
593 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1201
592 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb] [1] 1204
591 Plasma에서 Coupled(결합)의 의미 [Power coupling과 breakdown] [1] 1207
590 3-body recombination 관련 문의드립니다. [Energy 보존 및 momentum 보존] [2] 1211
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