번호 제목 조회 수
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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53122
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64501
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85114
458 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1278
457 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 1284
456 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 1290
455 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1302
454 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1307
453 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1307
452 RF matcher와 particle 관계 [2] 1309
451 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1324
450 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1342
449 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1350
448 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1354
447 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1373
446 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1375
445 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1375
444 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 1378
443 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1380
442 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1381
441 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 1397
440 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1399
439 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1428

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