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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
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etching에 관한 질문입니다.
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N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
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플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요?
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질문있습니다.
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다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
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PECVD Precursor 별 Arcing 원인
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RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
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RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다.
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Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
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터보펌프 에러관련
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Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
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플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
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플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!?
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
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잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다.
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
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Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
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401 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
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