Shower head 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating]

2022.09.26 19:29

나비제임스 조회 수:939

안녕하세요. CCP TYPE의 Chamber에 관한 문의점이 있습니다.

 

CCP 방식의 Chamber에서 HF를 이용하여 Plasma를 생성할여 Deposition을 진행하는 공정의 경우 Wafer가 안착되는 Plate의 온도가 Shower Head 보다 일반적으로 높은 조건을 사용하게 됩니다.

이때 HF의 주파수를 기존의 2배로 변경하게되면 Plasma의 밀도가 증가할 것으로 생각되며 다양한 변화가 발생할 것으로 생각됩니다.

그럼 온도 측면에서 Shower Head에 열전달 변화가 발생할까요?

저압에서 진행하는 공정 특성상 Plasma 온도변화가 Shower Head에 미치는 영향은 미비할것으로 생각되는데 주파수 변화와 Plasma 온도와 관련된 논문을 찾을 수 없어서 문의드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102615
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24654
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61354
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73436
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105739
813 Druyvesteyn Distribution 369
812 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 372
811 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 383
810 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 387
809 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 391
808 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 401
807 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 401
806 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 405
805 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 410
804 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 412
803 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 416
802 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 424
801 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 426
800 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 426
799 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 429
798 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 431
797 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 432
796 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 437
795 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 437
794 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 447
쓰기
태그

Boards

XE Login