안녕하세요

 

항상 많은 도움 감사합니다.

 

PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다.

 

CCP TYPE CVD 공정의 경시성 현상에 관한 질문입니다.

 

일반적으로 경시성은 Shower Head 의 불균일한 Oxidation에 의해서 발생을 하게 되는데

Oxidation이 심하게 되는 부위에서 Oxide 막이 두껍게 형성되어,

Shower Head에서의 열이 방사율이 높아짐에 따라 산화가 많이 된 쪽이 Heat Loss가 더 커질 것으로 판단되는데요

 

일반적으로 Oxidation의 경우 Center 대비 Edge 쪽에서 많이 이뤄져서 Edge 쪽 방사율에 의해 Edge 막의 Temp가 더 낮을 것으로 예상했으나

실제 현상으로는 Center 쪽 막의 Temp가 더 낮은 현상이 일어납니다.

 

이론적인 부분과 실제 현상이 매칭이 잘 안되어서 혹시 원인이 무엇일지 궁금해서 의견 어떠신지 질문드립니다.

(Edge 영역으로 열전달이 많이 될 수 있는 매커니즘이 있는지 궁금합니다)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78038
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20848
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93634
799 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 113
798 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 118
797 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 134
796 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 137
795 플라즈마 설비에 대한 질문 139
794 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 145
793 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 148
792 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 158
791 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 158
790 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 166
789 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 167
788 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 169
787 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 169
786 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 170
785 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 177
784 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 181
783 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 181
782 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 182
781 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 183
780 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 185

Boards


XE Login