상세한 답변 정말 감사합니다!! 추가 질문이 있습니다. 
1. 현업에서 스크레치와 같은 defect들은 대부분 edge에서 일어난다고 알고있습니다. 그렇다면 etch 공정 기술 엔지니어로서, edge의 수율을 높이는 방법에는 무엇이 있을까요? 

저는 이 방법을 center to edge 균일도 제어로 생각해서 위와 같은 질문을 드렸는데, 여기서는 추가 부품을 사용하는 방법을 써야하므로 공정 레시피 측면에서 제어할 요소가 적다고 말씀하셔서 추가 질문 드립니다! 

2. 양산 수율 달성 측면에서, 높은 aspect ratio로 인한 문제가 핵심인 것이 맞나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76431
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19995
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57067
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68543
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91342
757 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 173
756 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 189
755 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 195
754 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 202
753 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 213
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 218
751 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 219
750 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 222
749 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 248
748 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 257
747 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 262
746 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 271
745 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 273
744 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 281
743 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 286
742 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 288
741 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 288
740 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 297
739 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 309
738 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 315

Boards


XE Login