안녕하세요. 대기압 플라즈마 관련 회사를 다니고 있는 청년입니다.

최근에 보다 높은 밀도의 플라즈마를 얻기 위한 공부를 하고 있습니다.

플라즈마의 밀도가 높아지면 라디컬의 밀도도 높아지고 그에 따라 처리효과 (예를 들면 오염물 제거) 도 좋아 질 것이라고 생각합니다.

특허에 있는 방법으로는 반응기 자체를 가열 하는 방법이 있었습니다.

그외에 플라즈마 밀도를 높이기 위한 방법은 없는지 궁금합니다.

플라즈마에 대한 지식이 짧아 질문이 정확하지 못합니다. 죄송합니다 ㅠㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76870
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
417 Wafer particle 성분 분석 [1] 2330
416 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2335
415 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2336
414 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2337
413 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2340
412 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2341
411 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2341
410 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2349
409 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2351
408 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2353
407 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2359
406 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2361
405 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2362
404 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2398
403 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2435
402 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2438
401 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2450
400 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2490
399 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2491
398 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2516

Boards


XE Login