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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60939
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72931
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 104837
793 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 422
792 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 427
791 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 429
790 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 435
789 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 439
788 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 440
787 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 440
786 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 443
785 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 443
784 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 448
783 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 449
782 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 455
781 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 462
780 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 463
779 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 488
778 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 488
777 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate] [1] 505
776 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 528
775 chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성] [1] 529
774 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 531

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