Ashing H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...

2010.04.10 19:15

Park Sang Il 조회 수:24665 추천:163

안녕하세여... 자료를 찾던중 도저히 모르겠어서 답변 부탁드립니다. 현재 H2 플라즈마로 표면 처리를 하고 있습니다. 그러나, 폴리머 계통이 잘 Ashing되지 않아, O2를 쓰려고 합니다. 몇몇 업체에서는 미량의 산소를 수소와 함께 쓰는 것으로 알고 있습니다. 그러나 산소와 수소가 섞이면 반응하는 것으로 알고 있어서 위험할 것 같아서 질문드립니다. 수소 플라즈마에 산소를 섞으면 얼마의 비율로 섞어야 하는지 궁금합니다. 정확한 수치가 없다면, 제가 찾아봐야할 관련자료라도 알려 주시면 고맙겠습니다. 감사합니다. 답변 꼭 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76858
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20263
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57195
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68747
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92611
77 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23087
76 No. of antenna coil turns for ICP 23106
75 고온플라즈마와 저온플라즈마 23141
74 DC glow discharge 23259
73 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23266
72 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23340
71 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23399
70 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23455
69 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23770
68 Arcing 23838
67 플라즈마 쉬스 23946
66 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23985
65 self Bias voltage 24072
64 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24122
63 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24182
62 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24344
61 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24350
60 플라즈마가 불안정한대요.. 24522
59 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24606
» H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24665

Boards


XE Login