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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시]
[1] | 29094 |
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플라즈마와 자기장의 관계
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플라즈마를 이용한 오존 발생장치 [Ozone과 Plasma]
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물질내에서 전하의 이동시간
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플라즈마의 정의
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압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [Mean free path]
[1] | 29838 |
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matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계]
[1] | 30184 |
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PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage]
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플라즈마 밀도 [Langmuir 탐침과 플라즈마의 밀도]
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OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching]
[1] | 30948 |
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[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
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[Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching]
[1] | 31795 |
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RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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DC Bias Vs Self bias [전자 에너지 분포]
[5] | 32224 |
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RF에 대하여...
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ICP 플라즈마에 관해서
[2] | 32845 |
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PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정]
[1] | 33170 |
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ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process]
[2] | 35531 |
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Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion]
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Self Bias [Self bias와 플라즈마 특성 인자]
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