안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데

두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)

고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.

POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.

현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는  공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.

 

혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.

감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [336] 107917
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 26344
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 63518
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 75175
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 108660
695 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 919
694 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 919
693 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 925
692 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [플라즈마 회로 설계] [2] 926
691 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 929
690 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 942
689 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 942
» RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 945
687 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 950
686 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 954
685 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 961
684 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 963
683 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 968
682 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 979
681 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 985
680 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 987
679 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 999
678 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [전극 설계 및 방전기 운전 모드 개발] [1] 1001
677 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 1001
676 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [Self bias] [1] 1006

Boards


XE Login