안녕하세요. 현재 ETCH 공정엔지니어를 직업으로 하고 있습니다.

 

다름이 아니라 ETCH 공정에 많은 Route 중 Metal Etch 공정에 관해 질문 드립니다.

 

METAL을 ETCH 할 경우 주 GAS로는 BCL3 + CL2 를 이용하고 추가적으로 N2, CHF3, CH4의 부수적인 GAS를 사용 합니다.

 

이러한 GAS 중 CH4 GAS의 용도 및 역할에 대해서 상세히 알고 싶습니다..

 

도움 부탁드립니다. 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77658
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20687
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57622
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69117
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93344
656 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 725
655 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 729
654 plasma 공정 중 색변화 [1] 730
653 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 733
652 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 733
651 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 735
650 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 740
649 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 745
648 Polymer Temp Etch [1] 746
647 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 747
646 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 753
645 ICP 후 변색 질문 758
644 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 763
643 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 764
642 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 771
641 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 771
640 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 778
639 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 779
638 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 786
637 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 786

Boards


XE Login