Others 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요.
2017.09.07 15:11
현재, 스퍼터링 시스템에 대해 공부를 하고 있습니다.
자연스레 플라즈마에 대해 알아야 되더라고요.
근데 공부 중에 플라즈마에 관련된 여러 변수 또는 파라미터들을 알게 되었습니다.
그 중 제가 질문하고자 하는 변수는 RF 파워인데요
RF 파워가 커지면 이온 에너지도 커진다고 알고 있습니다.
이게 왜 그런지 알고 싶습니다!
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] | 75749 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19436 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56660 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67993 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90214 |
187 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1054 |
186 | wafer bias [1] | 1055 |
185 | 자기 거울에 관하여 | 1100 |
184 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1104 |
183 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1106 |
182 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1111 |
181 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1119 |
180 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1175 |
179 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1178 |
178 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1202 |
» | 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] | 1213 |
176 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1213 |
175 | 플라즈마 기초입니다 [1] | 1244 |
174 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1253 |
173 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1350 |
172 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1353 |
171 | glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] | 1366 |
170 | standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1389 |
169 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1390 |
168 | Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] | 1403 |