Plasma in general ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요?

2021.09.11 22:39

김규형 조회 수:8738

건식식각 방법에 크게 이온을 이용하는 스퍼터 식각과 라디컬을 이용하는 화학적 식각 그리고 이온, 라디칼 모두를 이용하는 RIE가 있는데 ICP와 CCP로 생성한 플라즈마를 이용해서 물리적,화학적,반응 이온성 식각을 진행하는것으로 이해하면 되는건가요?? 

차이점은 어떠한 가스를 넣느냐에 따라 물리적 식각만 이루어질수도 있고, 화학적 식각만 이루어질수도 있고, RIE식각만 이루어질 수도 있는건가요??

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76875
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68752
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92699
177 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1346
176 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1364
175 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1366
174 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1393
173 플라즈마 관련 교육 [1] 1416
172 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1436
171 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
170 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1454
169 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1466
168 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1523
167 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1536
166 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1568
165 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1644
164 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1693
163 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1702
162 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1708
161 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1774
160 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1851
159 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1865
158 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1929
쓰기
태그

Boards

XE Login