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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 기초입니다
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O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다.
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CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도
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PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다.
[1] | 1263 |
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플라즈마 내에서의 현상
[1] | 1280 |
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강의를 들을 수 없는건가요?
[2] | 1296 |
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플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다....
[1] | 1303 |
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161 |
데포 중 RF VDC DROP 현상
[1] | 1313 |
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CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다.
[3] | 1321 |
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플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다.
[1] | 1344 |
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158 |
O2 플라즈마 클리닝 관련 질문
[1] | 1382 |
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157 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문
[1] | 1467 |
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156 |
N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 1506 |
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다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1526 |
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RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 1546 |
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ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
[2] | 1617 |
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플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!?
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플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1666 |
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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CVD 공정에서의 self bias
[1] | 1744 |
