안녕하세요.

대학원에서 실험을 하고 있는 대학원생입니다.

현재 Ge, Si wafer와 같은 여러가지 기판에 증착된 300nm Ni film을 thermal release tape를 이용하여 떼어낸 뒤, Si/SiO2 기판으로 전사하여 가열해 줌으로써 thermal tape를 제거하는 작업을 하고 있습니다.

tape를 제거한 뒤에 Ni 표면에 tape 잔여물들이 많이 남아 있어서 O2 플라즈마로 잔여물을 제거하려 하고 있는데요.

이상하게도, 전사 과정에서 Si/SiO2 기판에 묻어있던 tape 잔여물들은 1시간 이내에 완전히 제거가 되는데 Ni 표면에 있는 tape 잔여물들은 같은 조건에서 4시간 이상까지 플라즈마 처리를 하여도 잔여물이 전혀 줄어들지를 않습니다.

원인과 해결 방법을 알 수 있을까요??

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [324] 90908
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23330
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60004
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71826
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 100899
181 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1509
180 잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드] [1] 1530
179 플라즈마 내에서의 현상 [Neo-classical transport theory] [1] 1558
178 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1561
177 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1592
176 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1610
175 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1628
174 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1649
173 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature] [1] 1671
172 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1671
171 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1693
170 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1725
» O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1743
168 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1749
167 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1799
166 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma] [1] 1885
165 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 1921
164 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 1999
163 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1999
162 RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law] [1] 2121

Boards


XE Login