안녕하세요,

반도체 업체에서 PVD, Descum을 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

원래 담당이 Plasma 계열이 아니라 많은 것들이 부족하여 찾아찾아 이곳까지 발을 들이게 되었습니다. 궁금한 사항은 하기와 같습니다.

-. 현재 ICP type plasma 장비를 사용하고 있습니다.

-. ICP 설비 사용함에 있어 RF를 사용하여 coil에 bias를 인가함으로  plasma를 발생시키는 것과, platen(chuck)에 bias를 인가 하여 (-)극으로 만드는 것까지는 이해하고 있습니다.


==>  여기서, RF bias인가를 통해 platen이 (-)극으로 변경되었을 때, DC bias라는 명칭이 사용되는데(장비상 display, Vdc 또는 DC bias), 이 부분이 self bias를 통해 생성되는 bias라고 생각하면 되는 것인가요?

==> 그리고 Vdc 또는 DC bias로 display되는 전압이 혹시 DC 전원을 사용한 plasma와 동일한 영향력을 가지고 있는지 궁금합니다.

==> 영향력이 의미하는 부분은 DC 전원 사용하여 만든 음극은 electrode에 민감한 MEMS 자재를 작업하기엔 어렵기 때문에, 혹시 RF bias로 만든 DC bias가 DC전원을 사용했을 때와 동일한 effect를 가지는지가 궁금합니다.


답변주시면 감사드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [99] 3639
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15320
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50573
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62985
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82038
140 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 1911
139 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 1936
138 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2014
137 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2032
136 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2094
135 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2113
134 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 2263
133 Descum 관련 문의 사항. [1] 2359
132 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2421
131 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2423
130 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2511
» ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 2603
128 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 2755
127 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 2788
126 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3012
125 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3368
124 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 3842
123 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 3853
122 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4158
121 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 4814

Boards


XE Login