건식식각 방법에 크게 이온을 이용하는 스퍼터 식각과 라디컬을 이용하는 화학적 식각 그리고 이온, 라디칼 모두를 이용하는 RIE가 있는데 ICP와 CCP로 생성한 플라즈마를 이용해서 물리적,화학적,반응 이온성 식각을 진행하는것으로 이해하면 되는건가요?? 

차이점은 어떠한 가스를 넣느냐에 따라 물리적 식각만 이루어질수도 있고, 화학적 식각만 이루어질수도 있고, RIE식각만 이루어질 수도 있는건가요??

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [62] 1602
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 2541
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49537
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59746
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 75860
133 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 1873
132 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 1875
131 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 1902
130 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 1978
129 Descum 관련 문의 사항. [1] 2020
128 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2184
127 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. 2462
126 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 2468
125 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 2483
124 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 2583
123 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 2650
» ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 3151
121 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3267
120 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 3464
119 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 3812
118 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 4578
117 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5254
116 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 5655
115 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 5854

Boards


XE Login