CCP 반사파에 의한 micro arc 질문
2024.03.30 12:47
안녕하세요 교수님
CCP type의 PECVD 공정을 맡고 있는 직장인입니다.
매번 교수님의 설명으로 큰 도움 받고 있습니다, 대단히 감사드립니다.
이번에는 reflect power에 의한 arc 관련 질문 드립니다.
우선 현상은 이렇습니다. HF 가 turn on 되고나서 수 m sec 동안 matcher 가 즉각적으로 대응하지 못하여, 인가되는 power가 전부 반사되는 상황입니다. Power는 1000W 수준이고 수 m sec 이후에는 reflect를 정상적으로 제압해 나갑니다.
Reflect가 발생하는 수 m sec동안 micro arc 가능성이 있다는 얘길 들었습니다. Arc 의 조건에 해당 상황이 부합하지 않는데, 어떤 원리로 arc가 발생할 가능성이 있을까요?
늘 감사드립니다.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76751 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20217 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57170 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68707 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92313 |
159 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 48 |
158 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
157 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 88 |
» | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 89 |
155 | CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] | 119 |
154 | skin depth에 대한 이해 [1] | 132 |
153 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 139 |
152 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 141 |
151 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 156 |
150 | CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] | 159 |
149 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 249 |
148 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 320 |
147 | ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] | 354 |
146 | H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] | 434 |
145 | 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] | 437 |
144 | Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. | 469 |
143 | plasma striation 관련 문의 [1] | 474 |
142 | 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] | 501 |
141 | Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] | 514 |
140 | 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] | 516 |