안녕하세요 RPS 식각장비을 사용하는 중 문제가 발생하여 문의드립니다.


현재 RPS 장비를 이용한 폴리머 (SU-8, epoxy계열)의 식각 공정을 하는데, 주로 골드가 증착된 웨이퍼 위에 코팅한 폴리머를 지우는 용도로 쓰고있습니다.


사용하는 가스는 N2, O2, CF4 가스를 사용하고 있으며, 공정 조건은 0.45Torr 압력의 40도 공정조건을 사용하고 있습니다.


헌데 얼마전부터 에칭과정에서 골드기판이 손상되는 현상이 발생하였는데, 아직 그 원인을 찾지 못하고 있습니다. 이론적으로는 메탈이 손상될 일이 없어야하는걸로 알고 있습니다. 잠정적으로는. 폴리머 애칭시 생성되는 byproduct (HF) 에 의한 손상이라 생각되는데, HF의 높은 증기압을 생각하면 꼭 그렇지도 않은것 같고, 챔버의 벤팅문제라 생각되어 펌프를 정비받았으나, 이 또한 문제가 없다고 합니다. 


골드기판이 손상되는 경우에는 보통 풀라즈마 밝기가 평소보다 약하게 발생하는 특징이 있습니다. 이제는 플라즈마 정비 내부에 문제가 있다 생각이 되는데 교수님 의견을 듣고 싶습니다. 감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [46] 963
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 748
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49342
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 58726
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 72985
122 anode sheath 질문드립니다. [1] 163
121 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 165
120 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 165
119 라디컬의 재결합 방지 [1] 171
118 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 196
117 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 212
116 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 232
115 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 269
114 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 271
113 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 279
112 핵융합 질문 [1] 324
111 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 331
110 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 333
109 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 347
108 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 349
107 플라즈마 챔버 [2] 366
106 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 369
105 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 396
» RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 397
103 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 416

Boards


XE Login