Remote Plasma remote plasma 데미지 질문
2020.04.18 19:32
안녕하세요
반도체 공부하고 있는 학생입니다
반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다
remote plasma 경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,
제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다
그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?
자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76734 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
99 | Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] | 1288 |
98 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1323 |
97 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1330 |
96 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1355 |
95 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1395 |
94 | dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] | 1402 |
93 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1436 |
92 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1445 |
91 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1453 |
90 | 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] | 1488 |
89 | plasma 형성 관계 [1] | 1517 |
88 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1601 |
87 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1607 |
86 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1661 |
85 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1670 |
84 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1737 |
83 | N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] | 1811 |
82 | 가입인사드립니다. [1] | 1880 |
81 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1900 |
80 | RF generator 관련 문의드립니다 [3] | 1914 |
본 게시판의 DC glow discharge와 Breakdown 조건에 대해서 살펴 보세요. 리모트 플라즈마는 소스(생성부)의 플라즈마를 처리챔버(처리부)로 확산시켜 사용하는 장치, 즉 소스가 멀리 떨어져 있는 경우이며, 확산시 이온화는 소스부에서 만들어진 전자 에너지에 관계하며, 처리부 플라즈마는 상대적으로 낮은 밀도, 낮은 온도의 플라즈마가 필요한 공정에 적용되는 장비 플라즈마의 특성을 가집니다.