Others 질문있습니다.

2019.09.30 19:03

sungsustation 조회 수:2585

플라즈마 기초부분에서 에너지 분포와 이온화에 대한 질문입니다.

전자온도와 이온화 에너지가 주어져 있을때 에너지 분포(EEDF)를 이용한다면 전자의 약 %가 이온화에 기여하는지 어떻게 알 수 있는지요?

<구체적인 식이 궁금합니다. 예를 들어 전자온도가 3V , 이온화에너지가 약 15V라 한다면)

일정한 부피에 전자의 갯수가 정해져있을때 온도의  단위가 V(볼트)로 주어진다면 운동에너지를 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76901
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20295
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57212
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68764
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92723
82 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 829
81 문의 드립니다. [1] 875
80 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 967
79 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 970
78 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1040
77 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1139
76 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1144
75 Group Delay 문의드립니다. [1] 1152
74 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1266
73 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1308
72 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1393
71 플라즈마 관련 교육 [1] 1417
70 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1438
69 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1455
68 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1568
» 질문있습니다. [1] 2585
66 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3461
65 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3495
64 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3815
63 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4002

Boards


XE Login