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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73100
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105256
29 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 370
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 469
27 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 579
26 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 707
25 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 837
24 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 856
23 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 879
22 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 1087
21 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 1162
20 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1189
19 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1357
18 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1368
17 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1391
16 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1435
15 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1889
14 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1911
13 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 2023
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2765
11 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4159
10 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 7697

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