안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [129] 5616
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16915
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51352
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64226
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84310
23 plasma striation 관련 문의 [1] file 171
22 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 354
21 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 367
20 라디컬의 재결합 방지 [1] 467
19 anode sheath 질문드립니다. [1] 515
18 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 515
17 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 520
16 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 694
15 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 775
14 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 890
13 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 911
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1202
11 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1272
10 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2568
9 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7328
8 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16150
7 CCP 의 electrode 재질 혼동 16211
6 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 16625
5 capacitively/inductively coupled plasma 17521
4 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18776

Boards


XE Login