CCP 반사파에 의한 micro arc 질문

2024.03.30 12:47

매쳐 조회 수:142

안녕하세요 교수님

CCP type의 PECVD 공정을 맡고 있는 직장인입니다.

매번 교수님의 설명으로 큰 도움 받고 있습니다, 대단히 감사드립니다.

 

이번에는 reflect power에 의한 arc 관련 질문 드립니다.

우선 현상은 이렇습니다. HF 가 turn on 되고나서 수 m sec 동안 matcher 가 즉각적으로 대응하지 못하여, 인가되는 power가 전부 반사되는 상황입니다. Power는 1000W 수준이고 수 m sec 이후에는 reflect를 정상적으로 제압해 나갑니다.

 

Reflect가 발생하는 수 m sec동안 micro arc 가능성이 있다는 얘길 들었습니다. Arc 의 조건에 해당 상황이 부합하지 않는데, 어떤 원리로 arc가 발생할 가능성이 있을까요?

 

늘 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77200
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20461
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57359
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68897
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92944
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 117
» 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 142
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 220
25 plasma striation 관련 문의 [1] file 500
24 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 602
23 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 605
22 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 772
21 라디컬의 재결합 방지 [1] 822
20 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 886
19 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1009
18 anode sheath 질문드립니다. [1] 1030
17 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1040
16 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1087
15 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1366
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1504
13 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1641
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2328
11 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3600
10 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5302
9 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7678

Boards


XE Login