|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[333]
| 103361 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 24718 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 61540 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 73524 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 105958 |
|
9 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp]
[1]  | 8231 |
|
8 |
CCP의 electrod 재질 혼동 [PECVD와 화학물 코팅]
| 16661 |
|
7 |
좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도]
[2] | 17059 |
|
6 |
capacitively/inductively coupled plasma [Heating mechanism과 coolant]
| 17973 |
|
5 |
RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [RF 방전과 이온 에너지]
[1] | 19162 |
|
4 |
에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 20049 |
|
3 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating]
| 23343 |
|
2 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23411 |
|
1 |
CCP/ICP , E/H mode
| 23605 |
