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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76632
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20138
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57143
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68662
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92102
30 skin depth에 대한 이해 [1] 68
29 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 77
28 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 80
27 ICP에서 전자의 가속 [1] 123
26 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 711
25 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 826
24 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1047
23 공정플라즈마 [1] 1142
22 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1301
21 ICP lower power 와 RF bias [1] 1424
20 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1466
19 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1593
18 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1658
17 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1666
16 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1895
15 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1936
14 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2294
13 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2298
12 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2303
11 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2465

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