ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여
2018.12.21 07:56
안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.
플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,
Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,
O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.
튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데
매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다.
주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,
혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 72 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48822 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 54112 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 62552 |
20 |
ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!!
![]() | 0 |
19 | 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] | 233 |
18 | 공정플라즈마 [1] | 518 |
17 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 524 |
16 | Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] | 582 |
15 | CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] | 628 |
14 | 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] | 637 |
» | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 651 |
12 | 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] | 874 |
11 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1355 |
10 | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 1545 |
9 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15635 |
8 | ccp-icp | 20239 |
7 |
F/S (Faraday Shield)
![]() | 20394 |
6 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21088 |
5 | 플라즈마의 발생과 ICP | 21146 |
4 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 22031 |
3 | No. of antenna coil turns for ICP | 22357 |
2 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 23648 |
1 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 29492 |
ICP는 antenna를 통해 RF power가 전달되고, CCP는 마주보고 있는 electrode를 통해서 전달되지요. 전기적으로 보면 antenna는 inductor로 가정이 될 수 있고, 평판형 전극은 capacitor로 가정할 수가 있습니다. 따라서 matcher는 inductor의 load impedance 혹은 capacitor의 load impedance 차이가 됩니다. 두 임피던스의 특성은 RF에 대해서 반비례하는 성질을 갖고 있으니, matcher가 정합하는 기능이 차이가 생길 수 밖에 없겠지요. 대부분 matcher의 회로를 변경해서 사용하며, 상세한 내용은 Lieberman의 principles of plasma discharges and material processing 의 내용을 참고하시면 되겠습니다. 일부 정합기에 대한 설명은 본 계시판에도 수록이 되어 있으니 참고하세요.