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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching]
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Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해]
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Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
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안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다.
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RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의
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Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해]
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리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ
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RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
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PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
[1] | 1341 |
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Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다.
[1] | 1349 |
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Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 2053 |
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RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 2131 |
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RPS를 이용한 SIO2 에칭
[1] | 2476 |
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RPSC 관련 질문입니다.
[2] | 4167 |
7 |
Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이
[1] | 10454 |
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remote plasma 데미지 질문
[1] | 14550 |
5 |
In-flight plasma process
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surface wave plasma 에 대해서
[1] | 18591 |
3 |
ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요?
[1] | 24490 |
2 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 25023 |