Remote Plasma remote plasma 데미지 질문

2020.04.18 19:32

룰루랄라 조회 수:14491

안녕하세요 


반도체 공부하고 있는 학생입니다


반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다

remote plasma  경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,

제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다

그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?


자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77007
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20345
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57267
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68811
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92811
20 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 82
19 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 90
18 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 453
17 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 652
16 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 762
15 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1051
14 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1197
13 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1215
12 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1234
11 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1979
10 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2041
9 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2410
8 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4068
7 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10386
» remote plasma 데미지 질문 [1] 14491
5 In-flight plasma process 15508
4 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18556
3 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24381
2 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24993
1 RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 95799

Boards


XE Login