Remote Plasma Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성

2024.05.08 11:06

CVDENG'R 조회 수:60

안녕하세요, 교수님.

현재 반도체 업체에서 근무중인 엔지니어입니다.

현재 Clean 조건은 High pressure 및 Low pressure Clean을 사용하고 있습니다.

혹시 High Pressure Clean 진행 간 Showerhead와 Heater간 간격이 조금 더 넓어지면 Clean 효율에 문제가 있을까요?
 Ex) 10mm → 13mm

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76875
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92697
20 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 42
» Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 60
18 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 451
17 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 611
16 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 761
15 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1050
14 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1186
13 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1199
12 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1216
11 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1961
10 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2026
9 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2399
8 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4057
7 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10376
6 remote plasma 데미지 질문 [1] 14482
5 In-flight plasma process 15506
4 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18551
3 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24358
2 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24989
1 RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 95750
쓰기
태그

Boards

XE Login