|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 48578 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 49789 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[1]
| 55047 |
|
77 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
[2] | 190 |
|
76 |
매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다.
[1] | 274 |
|
75 |
RPC CLEAN 시 THD 발생
[1] | 282 |
|
74 |
analog tuner관련해서 질문드립니다.
[1] | 289 |
|
73 |
대학원 진학 질문 있습니다.
[2] | 392 |
|
72 |
Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문
[3] | 508 |
|
71 |
고진공 만드는방법.
[1] | 552 |
|
70 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
[1]  | 556 |
|
69 |
matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다.
[1] | 610 |
|
68 |
임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[4] | 611 |
|
67 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다.
[1] | 618 |
|
66 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 660 |
|
65 |
dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 693 |
|
64 |
Vpp, Vdc 측정관련 문의
[1] | 695 |
|
63 |
Impedence 위상관련 문의..
[1] | 710 |
|
62 |
MATCHER 발열 문제
[3] | 756 |
|
61 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
[1] | 786 |
|
60 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 938 |
|
59 |
Si Wafer Broken
[2] | 1138 |
|
58 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1176 |
