|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[326]
| 97456 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 23719 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 60418 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 72267 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 102619 |
|
132 |
PEALD 챔버 세정법
[1] | 38 |
|
131 |
RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화
[2]  | 140 |
|
130 |
스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다
| 161 |
|
129 |
스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해]
[1] | 203 |
|
128 |
HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다.
[2] | 220 |
|
127 |
플라즈마 설비에 대한 질문
| 266 |
|
126 |
내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링]
[1] | 304 |
|
125 |
인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath]
[1] | 486 |
|
124 |
chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성]
[1] | 503 |
|
123 |
ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
[1] | 543 |
|
122 |
HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
[1] | 557 |
|
121 |
Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
[2] | 568 |
|
120 |
반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열]
[2] | 582 |
|
119 |
ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다
[1] | 604 |
|
118 |
CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선]
[1] | 620 |
|
117 |
CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
[1] | 660 |
|
116 |
PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산]
[1] | 689 |
|
115 |
Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다.
| 690 |
|
114 |
Interlock 화면.mag overtemp의 의미
| 700 |
|
113 |
Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰]
[1] | 707 |
