안녕하세요.교수님

 

이번에 설비사에서 Matcher Plate에 Matcher를 장착할 때 Plate와 Matcher 바닥면 사이 약간의 유격이 있는 상태에서 볼트로 체결하고 RF Power 13.56MHz 2kW 인가 해서 Output 커넥터(20PI 소캣타입)에 아킹이 발생 하였습니다. (크리피지 길이는 충분합니다.)

볼트로 체결하면서 Plate와 Matcher 사이는 완전이 붙었다곤 하지만 제생각엔 완전 면접촉 상태가 아니고 점접촉 상태에서 CURRENT PATH 때문에 아킹이 발생 한 것 같은데 이 원리를 이론적으로 잘 모르겠더라구요..

 

답변 부탁드립니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 111541
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27849
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 65126
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76961
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 111214
133 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 270
132 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 384
131 [Update] Shower Head의 구멍이 일부 막힌 Case의 출력 [1] 399
130 플라즈마 설비에 대한 질문 403
129 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 440
128 PEALD 챔버 세정법 [1] 608
127 chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성] [1] 610
126 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 745
125 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열] [2] 755
124 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 770
123 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 784
122 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 786
121 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 786
120 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 801
» CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선] [1] file 807
118 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 811
117 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 820
116 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 921
115 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 924
114 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의 드립니다. [플라즈마 분포와 확산] [1] 967

Boards


XE Login