안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.


pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side bottom에 달았습니다.


여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77242
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57374
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68904
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
126 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 28
125 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 60
124 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 77
123 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 78
122 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 91
121 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 92
120 플라즈마 설비에 대한 질문 114
119 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 369
118 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 380
117 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 381
116 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 402
115 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 422
114 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 453
113 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 549
112 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 554
111 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 567
110 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 597
109 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 615
108 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 653
107 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 658

Boards


XE Login