안녕하세요. 반도체재료가스 회사에 다니고 있는 정주현이라고 합니다.
현재 장비에서 RF인가할 때, 전자파가 상당히 누설되고 있어서 전자파 누설의 원인과 해결책에 관해서 질문드리려고 합니다.

현재 사용중인 장비는 pecvd장비로 6인치 대응 중고장비를 300mm 웨이퍼 대응 장비로 개조하였습니다.
개조라고 해보았자, 스테이지크기와 샤워헤드 크기만 바꾼것에 불과합니다.

개조로 인해 내부 임피던스가 바뀌어서, 현재 사용중인 RF전원과 매칭박스로는 정합에 상당히 어려움을 겪고 있습니다.
플라즈마 방전은 되나, 반사파 수치가 상당히 요동을 치는 상태입니다. 매칭은 자동으로 밖에 안되고 수동으로는 상당히 어렵습니다.

또한 매칭박스를 챔버에 붙여서 설치해야하나 장비 형태에 의해서 불가능하며, 또한 돈이 없는 관계로 쉴딩된 고주파용 전선이 아닌 일반 동선을 이용해 매칭박스에서 챔버로 RF를 인가하고 있습니다.(개략도 첨부)

이러한 상황에서, RF를 인가하면 전자파가 누설되어서 주변 분석장비에 영향을 끼치는 상황입니다.(프린터가 제멋대로 온/오프되면서 인쇄, MFC의 유량 수치 요동등)
상황설명이 상당히 길어졌네요.

전자파 누설이 어떠한 매카니즘으로 되는지 궁금하고 그 해결책에는 무엇이 있는지 여러 교수님 그리고 선배 연구원님들께 답변 부탁드립니다.