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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load]
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CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다. [플라즈마 특성변화와 SH impedance 변화]
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PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAT <-> STAGE HEATER 간 GAP과 DEPO 막질의 THK와의 연관성…. [Plasma property와 process control]
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matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance]
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안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스]
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매칭시 Shunt와 Series 값 [RF 전원 전력 전달 및 Load/Tune 계산]
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임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching]
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Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring]
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SI Wafer Broken [Chucking 구동 원리]
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ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절]
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ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리]
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RF matcher와 particle 관계 [DC glow 방전, 플라즈마 임피던스]
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ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어]
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dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성]
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Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset]
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플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath]
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Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor]
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RF calibration에 대해 질문드립니다.
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매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달]
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