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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73525
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105968
33 electrode gap 18154
32 Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias] 18489
31 최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free] 18642
30 MFC [Direct liquid injection] 19419
29 CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할] 19475
28 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19478
27 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법] [1] 20045
26 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20468
25 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] 20526
24 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20642
23 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21504
22 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21548
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22548
20 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22827
19 Peak RF Voltage의 의미 22858
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23086
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23475
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 25005
15 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 25031
14 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 25247

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