안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.

 

pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side bottom에 달았습니다.

 

여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79706
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21376
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69748
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94681
29 MFC [Direct liquid injection] 19368
28 CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할] 19396
27 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법] [1] 19903
26 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20159
25 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] 20389
24 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20478
23 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21205
22 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21308
21 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22354
20 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22648
19 Peak RF Voltage의 의미 22708
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23006
17 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23398
16 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24779
15 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 24844
14 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 24861
13 Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown] [1] 25045
12 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25636
11 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 26413
10 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26619

Boards


XE Login