Others [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
2019.07.22 21:04
안녕하십니까, 식각공정 장비 담당하는 회사원입니다.
장비에서 올라오는 신호로 Plasma에 대해 해석을 하는 경우가 있는지 알고싶습니다.
양산라인에서 쓸만한 Monitoring Method에 대해서도 알고싶습니다.
제 주 업무는 장비에서 올라오는 신호들을 분석하는 것인데요,
(저희 부서에서는 일본계 회사 제품을 사용하고있습니다.)
업무를 하다보면 제품 온도 변화 혹은 내부 상태의 변화에 따라 불량이 발생하는 경우가 자주 있습니다.
아쉬운 점은 이걸 장비 신호로 플라즈마의 공정상 영향을 미치는 정보들이 해석이 안되는 경우가 많습니다.
(특정 구간에서 불량이 검출되었으나 Trend 상으로 전혀 문제가 없어 보이는)
센서 심화를 더 시켜야 하는것인지 고민될때가 많습니다.(H/W적인 변경점을 주는것은 상당히 어렵습니다만)
연구실에서 사용하는 방법론들에 대해 알려주시면 많은 도움이 될 것 같습니다.
감사합니다.
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